La litografía de ultravioleta extremo es el cuello de botella más estrecho de la industria mundial de semiconductores, ya que solo la neerlandesa ASML fabrica estas máquinas imprescindibles para producir circuitos por debajo de los siete nanómetros. Desde 2019, por presión de Estados Unidos, ASML tiene prohibido vender sus modelos más avanzados a China, y cada equipo cuesta entre 200 y 400 millones de dólares, por lo que ningún cliente chino ha logrado adquirir uno hasta ahora. Ante este escenario, un equipo de la Academia China de Ciencias, con sede en Shanghái y dirigido por Lin Nan —excientífico de ASML que regresó a su país en 2021—, ha construido la primera plataforma china de fuente de luz UVE por láser-plasma. Su gran acierto estratégico ha sido diseñar una vía técnica que esquiva deliberadamente el método de ASML y más de dos mil de sus patentes, una maniobra que la columnista Qiu Yanfang califica no solo como una jugada legal, sino como auténtica ingeniería propia. La clave de este enfoque radica en que, mientras ASML dispara láseres de dióxido de carbono contra gotas de estaño líquido, el equipo chino emplea un láser de estado sólido de una micra que impacta sobre un blanco de estaño sólido, una alternativa que ofrece mayor compacidad y eficiencia de conversión.
A pesar del avance logrado en el laboratorio, especialistas como Qiu Yanfang advierten que a corto plazo esta tecnología no podrá desplazar el dominio de ASML, pues toda la cadena industrial global está construida en torno al láser de dióxido de carbono, y el salto desde un prototipo hasta la producción a gran escala sigue siendo enorme. Paralelamente, China impulsa otra vía más reservada: según reveló Reuters, ya existe un prototipo operativo en un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen, coordinado por Huawei y con la participación de institutos de investigación y empresas como SMEE y SiCarrier. El Gobierno chino aspira a fabricar chips con esta tecnología en 2028, aunque la mayoría de analistas consideran 2030 una meta más realista. Mientras tanto, Estados Unidos investiga si alguna máquina UVE de ASML habría llegado a China por vías clandestinas, algo que la compañía neerlandesa ha negado rotundamente. En definitiva, aunque aún no cuenta con una máquina comercial plenamente funcional, gracias al trabajo de equipos como el de Lin Nan, China ya dispone de un camino propio y un capital humano formado para intentar construirla.
